| Kurzbeschreibung: |
Die optische Lithographie ist ein Reproduktionsverfahren zur Herstellung von elektronischen Bauteilen. In der Fertigung von Lithographie-Optiken ist die Carl Zeiss SMT AG Marktführer. In dieser Arbeit wird ein Verfahren zur optischen Absolutleistungsmessung für UVStrahlung entwickelt und untersucht. Es wird überprüft, welcher Sensor für diese Messaufgabe an den Lithographie-Messmaschinen der Firma Carl Zeiss SMT AG geeignet ist. Des Weiteren wird für einen fest installierten Sensor im Bestrahlungssystem der Lithographie-Messmaschine ein Kalibrierprozess entwickelt. Bei Bedarf kann nun der Sensor im Bestrahlungssystem der Lithographie-Messmaschine ausgelesen und eine Analyse der in der Reticle-Ebene vorherrschenden Laserleistung durchgeführt werden. Diese Diplomarbeit ist firmenvertraulich und steht unter Verschluss. |
