| Kurzbeschreibung: |
Diese Diplomarbeit entstand bei der Firma Nanolay AG, welche einen qualitativ hochwertigen Reclaimservice von 300mm-Wafer für die Halbleiterindustrie bietet. Hierbei wird unter anderem von Seiten der Kunden großer Wert auf die Qualität der aufbereiteten Oberflächen der Siliziumscheiben gelegt. Für die Bestimmung der Oberflächendefekte werden bei der Nanolay AG zwei unterschiedliche Oberflächenmessgeräte eingesetzt. Ausgehend von diesen unterschiedlichen Partikelmessgerättypen werden Evaluierungs-, Korrelations-, und Prozessuntersuchungen durchgeführt, um die vorgegebenen Kundenspezifikationen nach ISO TS16949:2002 zu erfüllen.
Mit der vorliegenden Arbeit wird eine Bewertung der Messsysteme durchgeführt und hierbei die Messmittelfähigkeit des neuen Oberflächeninspektionsgeräts nachgewiesen. Dabei finden Methoden und Verfahren zur Versuchsplanung, Auswertung und Interpretation der Prozessergebnisse Anwendung. Des weiteren wird eine Prozedur entwickeln, welche das neue Oberflächenmessgerät mit dem bereits vorhanden Oberflächenmessgerät abgleicht. Hierfür wird ein Algorithmus bestimmt, der es ermöglicht unterschiedliche Spezifikationen einheitlich zwischen den beiden Messgeräten anzuwenden. |
